光学抛光如何有助于提高表面质量
光学抛光是一种专门为实现最小缺陷和最平滑的微观粗糙度值而开发制造工艺。抛光过程涉及使用游离磨粒，这些磨粒通常悬浮在液体（研磨液）中，而非像磨削那样被粘合在砂轮上。该工艺可产生表面粗糙度值低于 1 Å 的超平滑表面，从而将散射光降低至 1 ppm 以下。
高精度光学元件采用多种材料制成，从玻璃到金属不等。这些元件需经过抛光工艺处理，以满足光学表面光洁度要求。抛光工艺卓越的表面光洁度处理能力，使其被广泛应用于精密机械和光学元件的制造中。
各制造商在这一基本抛光方法上会有细微差异，并拥有实现特定目标的专有技术。例如，不同材料在面对不同的主轴或抛光盘转速时会表现出不同的特性。流经光学表面的抛光浆料中，微小研磨颗粒的粒径一致性如何？时间如何影响抛光过程？较大的颗粒或外部污染物是否会导致表面划伤或损坏？
因此，密切关注抛光过程的各个方面至关重要。从操作处理、主轴或抛光盘转速、研磨液中的颗粒粒度分布、抛光时间、电荷，甚至到监测研磨液的实际化学成分，所有这些因素都可能影响最终表面的质量。当需要始终如一地获得超光滑表面时，这将是一项极具挑战性的任务。
使用TopMap Micro.View®进行光学三维表面轮廓测量
TopMap Micro.View®（ ）是Polytec GmbH公司推出的一款非接触式光学测量仪器。作为一款极其先进的测量工具，它融合了创新技术，能够稳定、可靠地按照国际标准及可溯源标准件对表面进行测量和表征。
光学行业对质量控制的严苛要求，需要对超精加工表面纹理进行非接触式三维形貌检测。除了具备亚纳米级灵敏度的Z轴分辨率外，这款相干扫描干涉仪（CSI）还具有极高的测量重复性。结合自动化软件和稳定的硬件平台，Polytec 公司推出的TopMap 光学轮廓仪可提供大面积表面形貌图像。
TopMap Micro.View®（ ）非常适合对精密制造的光学平滑表面进行测量和表征。
TopMap Micro.View® 的所有参数均符合 ISO 4288 和 ISO 25178 标准。Polytec 数据表（以及 Fair 数据表）中使用的定义均载于新版 ISO 25178-600 标准中。 该仪器还符合 ISO 25178-700 标准（面积测量仪器的校准），其描述与我们的规格要求相一致。表面测量也可符合 ISO 10110 标准中关于光学元件的要求，包括采用正确过滤参数的表面纹理测量；表面缺陷、划痕、凹痕和缺口的测量结果均可记录并显示数据。
摘要
新款TopMap Micro.View® 非常适合光学抛光应用。该仪器采用先进的相干扫描干涉测量技术，也将成为整个生产设施中极具价值的工艺优化工具。所有测量均为非接触式，并可实现全自动化，从而有助于减少操作失误。
尺寸信息如下：
- 准确且定量的表面表征
- 无损检测——无需接触样品，也无需对样品进行预处理
- 快速、便捷，并可选配全自动化功能
- 适用于从超精磨到灰色调的各种光学材料
- 高分辨率、高重复性和稳定的测量
